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五合一团簇式钙钛矿叠层真空镀膜装备
五合一团簇式钙钛矿叠层真空镀膜装备整合了RPD、多源蒸镀、RF溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种技术,能够在真空环境中连续沉积各种薄膜,包括TCO(ITO、IWO、ICO、IZO)、Cu、SnO2和NiO等,同时保持界面间的优良特性,为材料科学、电子工程和光电子学等领域的研究提供了一个强大的装备支撑。
双面卷绕铜箔溅射镀膜设备
此款镀铜真空设备采用自主研发的卷绕控制系统,展平效果更佳,已稳定运行2万米,且未有断膜和褶皱的情形。同时,公司采用模块化的设计组合,创新性隔离闸阀设计,实现不破真空快速换卷,提高生产效率,实现复合铜箔生产的降本增效。
创新于微,创领未来
公司子公司创微微电子(常州)有限公司(以下简称“创微微电子”)携全新产品阵容参加SEMICON China 2024,其中12吋bench产品在本次展会上首次亮相,吸引了诸多行业内的专家学者和客户代表莅临创微微电子展位参观和交流洽谈,共同探讨最新研发技术与产品、半导体行业发展趋势、市场挑战以及合作机遇。
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以客户需求为基础,研发制造一流专业设备,向客户提供一流服务,为客户创造价值 。